400-677-0098
熱解石墨沉積爐
熱解石墨沉積爐
產品描述:
用于石墨、半導體器件、耐熱沖刷材料的表面熱解石墨涂層或生長。
應用范圍:
PG坩堝、PG板材、蒸鍍用坩堝、LEC坩堝、離子注入組件等。產品純度≥99.999%/99.9999%。

熱解石墨沉積爐技術特征

電阻爐可采用多溫區(qū)獨立控溫,溫度均勻性好;

采用智能壓力調控,壓力波動小;

全封閉沉積室,密封效果好,抗污染能力強;

多通道工氣路,流場均勻,無沉積死角,沉積效果好;

多級高效尾氣處理系統(tǒng),環(huán)境友好,易清理;

可選配外循環(huán)快冷系統(tǒng),降溫時間短,生產效率高;

適于工藝氣氛:真空/CH4/C3H6/H2/N2/Ar。


熱解石墨沉積爐產品規(guī)格

參數(shù)\型號VCVD-0305-CVCVD-0505-CVCVD-0608-CVCVD-0612-CVCVD-0812-CVCVD-1120-CVCVD-1218-CVCVD-1520-C
工作區(qū)尺寸 φ×H(mm)300×500500×500600×800600×1200800×12001100×20001200×18001500×2000
最高溫度(℃)2000/2300
溫度均勻性(℃)±5±5±5/±7.5±7.5/±10±7.5/±10±10/±15±10/±15±15/±20
極限真空度(Pa)1-100
壓升率(Pa/h)0.67
加熱方式電阻/感應

以上參數(shù)可根據(jù)工藝要求進行調整,不作為驗收依據(jù),具體以技術方案和協(xié)議為準。

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